電子ビームマスク描画装置 EBM-9500

7nmノード対応の電子ビームマスク描画装置

電子ビームマスク描画装置 EBM-9500

7nmノード先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置です。

特長

  • 1) 50KV加圧電圧で、コントラストに優れた描画性
  • 2) 多重描画方式によりパターン位置精度を向上
  • 3) ステージ可変速移動と高電流密度(1200A/cm2)によるスループット向上

仕様

マスクサイズ 6inch
加速電圧 50kV
電流密度 1200A/cm2
ページの上部へ