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多重电子束掩膜光刻设备　MBM™-2000

支持　3nm节点

MB Mask Writer
MBM™-2000

多重电子束掩膜光刻设备 MBM-2000

一种多重电子束掩模光刻设备，支持3nm节点系列的先进掩模量产。

特征

  • 1) 高速、高精度控制26万根电子束
  • 2) 采用PLDC（Pixel Level Dose Correction）技术，实现了对比度出色的光刻效果
  • 3) 独立于数据复杂度，同时实现了高吞吐量和高精度光刻

仕様

规格
掩膜尺寸 6inch
位置精度 1.4nm(３σ)
尺寸精度 0.7nm(３σ)
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