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掩模检查设备

高生产率掩模检测设备

Mask Inspection System
NPI-8000

掩模检查设备 NPI-8000

掩膜检测设备 NPI-8000 和 NPI-8000V 是一种可以高精度检测最先进光掩膜检测设备

特点

  • 1) 搭载有最尖端短波长199nm激光
  • 2) 实现60分钟以内的高速检测
  • 3) 搭载有提高实用灵敏度功能等的最新应用软件

规格

规格
掩膜尺寸 6inch
光源波长 199nm
产能 60minutes

研发路线图

掩模检测设备是对用电子束掩模光刻设备光刻和制造的电路原版(光掩模)进行高速检测的设备。
本公司密切关注对EUV光刻和纳米压印技术的支持等光刻技术的未来趋势,同时还在为5nm系列及更高级的设备开发掩膜检测设备。

研发路线图
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