検査装置の強み

マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置などを用いて製造したフォトマスクの欠陥を高速に検査し、半導体の歩留まり向上に貢献するための装置です。独自の光学系を採用し高い検査感度と高速検査を実現した最先端のマスク検査装置を提供しています。

DD（Die to Die）検査とDDB（Die to Database）検査が可能

当社のマスク検査装置は、フォトマスク上に形成した回路パターン同士を比較検査するDD（Die to Die）検査に加え、フォトマスクの設計データとフォトマスク上に形成した回路パターンを比較検査するDDB（Die to Database）検査を行うことが可能な装置であり、 同社独自の高速データ転送技術と、並列演算システムを採用し、60分以下のマスク欠陥検査（従来比４分の１～２分の１）を達成しています。

透過／反射の同時検査が可能

また、透過／反射の同時検査を可能とする独自の光学系を搭載しています。例えば、フォトマスクの検査では、欠陥の種類によって透過させて検査した方が見つけやすい欠陥と、反射の方が高精度に検出できる欠陥がある。NPI-8000では、光路を分岐することでこれを同時に行うことができます。

欠陥検査時間60分以下を実現

キーテクノロジーである高解像度透過／反射同時光学系と独自に開発した並列検査処理システムを採用することで、フォトマスクの欠陥検査時間60分以下を実現しています。