ご挨拶

代表取締役社長 重光文明

NuFlare, Beyond The Leading Edge

半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会に貢献し、発展し続ける企業でありたい。

ニューフレアテクノロジーは、2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。以来、当社は、半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発、製造、販売を手掛けております。

近年、スマートフォンやタブレットPC、高機能の薄型テレビ、ハイブリッドカー、電気自動車、クラウド・コンピューティング、スマートグリッドなど、社会のデジタル化やネットワーク化によって、私たちの生活環境は急速に発展しています。この変化の背景には、半導体デバイスの技術的な進歩が欠かせないことは言うまでもありません。

半導体デバイスの製造プロセスにおいて、リソグラフィー技術(半導体製造プロセスにおいてシリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光・転写する技術)は非常に重要な技術といえます。

ニューフレアテクノロジーは、そのリソグラフィー技術において中心的な役割を担うフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光・転写する際に使用する半導体デバイスの原版)に高精細な回路パターンを描画する電子ビームマスク描画装置に関する微細加工技術を東芝機械の時代から30年以上にわたって開発してまいりました。

また、現在においても、フォトマスクの検査に使用するマスク検査装置の開発や、パワー半導体デバイス向けに厚膜エピタキシャル成長装置を開発するなど新しい技術の実現にも挑戦し続けています。

ニューフレアテクノロジーは、今後も半導体製造装置を通じて、豊かな価値を創造し、社会の発展に貢献できるよう努めてまいります。皆さまの一層のご指導、ご鞭撻を賜りますようお願い申しあげます。


株式会社ニューフレアテクノロジー
代表取締役社長 重光文明

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