描画装置の強み

電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路原版となる「フォトマスク」に電子ビームを用いて描画する装置です。半導体の微細化に伴い、昨今では、電子ビームによる描画の精度は、ナノメートル単位での制御が必要とされています。

26万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御

当社のマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-2000」は、位置精度1.4nm（3σ）、寸法精度0.7nm（3σ）を達成しており、最先端マスクの生産に用いられています。
26万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御する新型デバイスを採用し、長期間の安定動作を実現しています。

PLDC（Pixel Level Dose Correction）技術を採用

また、独自開発したPLDC（Pixel Level Dose Correction）技術を採用し、１画素ごとに明るさの補正が可能で、先端マスクに必要な複雑な形状を有する図形でも高精度に描画することを可能としています。

豊富な製品ラインナップ

また、7nm＋／5nmノードに対応する「EBM-9000PLUS」を始め、7nmノードに対応する「EBM-9500」、10ｎｍノードに対応する「EBM-9000」、16／14nmノードに対応する「EBM-8000P/H」、さらに45～20nmノードまでミドルレンジに広範囲に対応する「EBM-8000P/M」まで、従来タイプのシングルビームマスク描画装置においても豊富な製品ラインナップを有しています。