マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM™-3000
2nm+ノード対応
Multi Electron Beam Mask Writer
MBM™-3000
2nm+ノード先端マスク量産対応のマルチ電子ビームマスク描画装置です。
特長
- 1) 50万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御
- 2) 曲線対応のMBF2.0データフォーマットによる複雑なパターンの高速描画
- 3) 高速データパスで制御するブランキングアパーチャアレイ
仕様
| マスクサイズ | 6inch |
|---|---|
| 位置精度 | 1.2nm(３σ) |
| 寸法精度 | 0.6nm(３σ) |