可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS
7nm+/5nmノード対応
EB Mask Writer
EBM-9500PLUS
7nm+/5nmノードのマスク量産に対応した可変成型電子ビームマスク描画装置です。
特長
- 1) 50kV加速電圧で、コントラストに優れた描画性
- 2) ステージ可変速移動と高電流密度(1200A/cm2)による高いスループット
- 3) 高いCOO（ Cost of Ownership ）を実現
仕様
| マスクサイズ | 6inch |
|---|---|
| 位置精度 | 1.8nm(3σ) |
| 寸法精度 | 1.3nm(3σ) |