マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM™-4000
A14ノード対応
Multi Electron Beam Mask Writer
MBM™-4000
14Aノード先端マスク量産対応のマルチ電子ビームマスク描画装置です。
特長
- 1) 10nmビームの採用により高解像性を実現しつつ高スループットを維持
- 2) MBM-3000比で 寸法制御性 約16％、位置精度 約8％改善
(0.6nmから0.5nm , 1.2nmから1.1nm) - 3) 大量ビーム、高電流密度および高速データ転送により高い生産性を実現
仕様
| マスクサイズ | 6inch |
|---|---|
| 位置精度 | 1.1nm(３σ) |
| 寸法精度 | 0.5nm(３σ) |