マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM™-2000
3nmノード対応
MB Mask Writer
MBM™-2000
3nmノード世代の先端マスク量産に対応した、マルチ電子ビームマスク描画装置です。
特長
- 1) 26万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御
- 2) PLDC(Pixel Level Dose Correction)技術を採用し、コントラストに優れた描画性
- 3) データの複雑さに依存しない、高スループットと高精度の描画の両立
仕様
| マスクサイズ | 6inch |
|---|---|
| 位置精度 | 1.4nm(３σ) |
| 寸法精度 | 0.7nm(３σ) |