描画装置技術部　システム技術グループ

理工学研究科卒
本杉 知生

新機能の精度を上げるための性能評価

私は描画装置に組み込まれる、新しい機能の性能評価を担当しています。新しい描画装置には様々な新機能が搭載されますが、その性能はマスクで評価します。マスクに描かれた電子ビームの座標や線幅を座標測定機や走査型電子顕微鏡（SEM）で確認し、求める精度が出ているかをチェックします。
描画装置の精度向上は、現在の誤差を正確に把握することから始まります。そのために欠かせないのが「誤差の定量化」です。ナノ単位の描画を行うためには、誤差をサブナノ単位で調整しなくてはなりません。誤差の定量化の積み重ねがあるからこそ、描画精度を向上することができるのです。何をどう測定すればその機能の精度を向上させることができるのかを考えながら、日々仕事に取り組んでいます。

お客様の要望を新しい技術開発のヒントに

学生のときは、大学院で化合物半導体の物性研究をしていました。前職では半導体デバイス工場でプロセス技術の仕事に携わり、その後2002年にニューフレアテクノロジーに転職しました。こちらでは当初前職と同じプロセス技術を担当していましたが、入社して3年目に客先技術担当になり、15年目にはサービス部に異動し装置の立上を1年半ほど担当しました。
描画装置は納品してスイッチを入れたらすぐ動くわけではなく、安定稼働させるまでに様々な調整が必要なんですね。こうした客先での立ち上げ業務や、技術担当としてお客様からいただいた要望を社内にフィードバックすることは、新しい技術開発につながります。その後また技術の仕事に戻って今に至りますが、お客様の第一線にいた経験は装置の精度を上げる大きなモチベーションになっています。

データの粗さを磨いていくおもしろさがある

性能評価の仕事は、測定手法を確立させることがゴールです。新しい装置には、膨大なデータが生まれます。その個々のデータの誤差を合計したものが精度です。精度を上げるためには、個々のデータの誤差をより少なくする必要があるんですね。集まった膨大なデータから、誤差を生じさせている原因を探ります。描画には設定条件がたくさんあるため、誤差の原因をなかなかつかめないことがありますが、誤差を示すデータの特徴が大きなヒントになることがあります。
マスク描画時に発生するデータを細かく見ていくと、粗い部分に気づきます。ガラスの玉を磨くように、データを磨いていく。そこにおもしろさを感じています。