研究与开发方针

涉及半导体制造的企业，其业务被细分化为各种各样｡然而，也有的企业综合性地参与半导体制造｡本公司作为其中的一员，是专注于研发与生产半导体制造设备的企业，今后也将继续开展研究与开发工作｡尤其是持续引领世界顶级水平的微细加工技术，这可以说是本公司的使命｡

紐富来科技的Design for Manufacturing

对于LSI所要求的高性能化、高功能化、低耗能来说，不可缺少微細化｡但是，伴随微細化所産生新的缺陷机理等，暴露出衆多誤差要因来，因此制造过程的控制就変得更困難、正逐渐影響到半導体的成品率｡

为此，开始强调整合从LSI的设计到制造的优化｡以良好的平衡优化设计与制造，力求实现制造的容易性，这就是DFM（Design for Manufacturing）｡DFM要求半导体厂家、材料厂家、设备厂家等在作为伙伴进行协作的同时，共同开发突破性技术，提出解决方案｡

紐富来科技的电子束掩膜光刻设备处于半导体制造工艺的上游，是核心的制造设备之一｡本公司与作为用户的半导体厂家深入合作，针对在光掩膜板上光刻的电路图形，降低尺寸精度的不均匀、实现进一步微细化的研究与开发｡

全世界有很多半导体相关厂家，各自发挥的作用也多种多样｡其中，本公司以“电子束掩膜光刻设备”为核心，力求成为专注于半导体制造设备的独一无二的企业｡本公司是把追求世界最高水平的人员聚集在一起的专业企业，通过与大型半导体厂家交流并提出建议，开拓下一代技术，始终追求世界第一｡

本公司特有的“Design for Manufacturing”、使肩负多领域专业的人员为下一代半导体提供解决方案｡