致辞

株式会社紐富来科技（NuFlare Technology）是2002年从东芝机械株式会社接管半导体装置业务而成立的公司。此后，通过开发并提供用于半导体产品制造的最先进电子束掩膜光刻设备、掩模检测设备和外延生长设备，为半导体产业的发展做出了积极的贡献。

今天，半导体被广泛地应用于通信、家电、汽车等与日常生活密切相关的产品，并通过网络的连接创造出巨大价值，为丰富的社会生活提供了有力支撑。随着半导体的飞速发展，对半导体制造设备的要求也日趋严格，呈现出多样化趋势。

株式会社紐富来科技（NuFlare Technology）公司在电子束掩膜光刻设备开发方面拥有30多年的历史，电子束掩膜光刻设备可以在光掩膜版（在硅晶片上曝光转印小型电路时使用的装置母版）上形成高精度电路图形，光掩模版是不仅是实现小型化核心，也是提升半导体装置性能和生产效率的关键。株式会社紐富来科技（NuFlare Technology）公司作为该领域的龙头企业，产品深受世界各国客户的青睐。

我公司开发的检测光掩模的掩模检测装置，以及有望在电动汽车等领域推广，用于功率半导体的SiC外延生长设备，也得到了广大客户的高度评价。此外，作为下一代电子束掩膜光刻设备的多光束光刻设备、融合了电子束技术和掩模检测技术的电子束掩模检测设备也从开发阶段进入到了实用阶段。
在此，我衷心地感谢各位一直以来对本公司的厚爱，并敬请今后更进一步地给予支持和指教｡

株式会社紐富来科技（NuFlare Technology）公司将继续保持领先的技术水平，及时提供符合客户需求的半导体制造设备，为实现本公司“通过最先进半导体制造设备，为半导体产业、社会和人类的发展做出贡献”的愿景不断努力。

未来，希望各利益相关方继续给予我们更多的支持。

株式会社紐富来科技

法人代表・总经理　高松 润