可变成型电子束掩膜光刻设备 EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
支持 16/14nm节点
支持 45～20nm节点
EB Mask Writer
EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
一种可变成型多重电子束掩模光刻设备，支持45～14nm节点的掩模量产。
特征
- 1) 通过50kV的加速电压实现了对比度出色的光刻效果
- 2) 通过载物台可变速移动和高电流密度(400A/cm2)实现了高吞吐量
- 3) 在广泛的技术节点领域实现了高COO（Cost of Ownership）
仕様
| 掩膜尺寸 | 6inch |
|---|---|
| 位置精度 | 50kV |
| 尺寸精度 | 1200A/cm2 |
