TFW装置技術部 研究開発グループ 倉島 圭祐 TFW装置技術部 研究開発グループ 倉島 圭祐

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キャリア採用者に聞く世界で通用する
エンジニアを目指して、
SiCエピ技術の課題に挑む
TFW装置技術部 研究開発グループ
倉島 圭祐

Q. ニューフレアテクノロジーを知ったきっかけを教えてください。

大学院での共同研究で、ニューフレアテクノロジーを初めて知りました。私の専門はSiCエピ装置のクリーニング技術で、共同研究者として論文に名前を載せてもらったり、実験のサンプル提供をして頂いたりといった形でやり取りを行っていたんです。とは言っても、実際に社員さんとお会いする機会はなかったので、どのような会社なのかは知らないまま卒業しました。
次にニューフレアテクノロジーの名前を聞いたのは、転職を考え始めたタイミングで転職エージェントから紹介を受けた時です。改めて調べてみると、パワーデバイスやSiCのエピにも携わっていることを知って、興味を持ちました。
これから伸びていきそうな市場で働くのも面白そうだと思い、入社することを決めました。

Q. ニューフレアテクノロジーに転職して、成長を感じたことはありますか?

特に成長できたのは、プロセスエンジニアとして海外のお客様の装置の立ち上げに携わった時です。海外現地のエンジニアと直接交流する機会があり、たくさんの刺激を貰いました。
特に現地の同年代のエンジニアは積極的に英語で話しかけてくれたので、私もそれに応えるために自力で話すようにしていました。日本国内で英語は勉強しておりましたが、実際に英語を使ってコミュニケーションを取った経験はあまりありませんでした。最初は苦手意識もありましたが、自分なりに会話で使えそうなフレーズを一つずつ覚えていくことで、最後の方には自信をもって会話ができるようになったんです。この経験を通して、英語を学んで世界で通用するエンジニアになりたいという思いが芽生えました。また、憧れていたプロセスエンジニアの業務に携わることができたことに対しても充実感を感じています。

  • TFW装置技術部 研究開発グループ 倉島 圭祐
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Q. 今後はどのようなキャリアを歩んでいきたいですか?

まずはSiCのエピ技術について、もっと突き詰めていきたいと考えています。SiC技術はシリコンの後を追いかける形で進化していますが、現在はエピ技術におけるさらなる膜質の向上が課題となっています。膜をきれいに作ることができればデバイスの完成度も高まりますが、現実的にはそれが難しく、装置からの微細なごみや基板から発生する欠陥がデバイスの性能を劣化させます。こういった問題を解決するために、研究・開発に取り組んでいくことが、今の私の目標です。
また、半導体の分野に身を置くのであれば、やはり英語のスキルも必要だと感じています。海外の技術者と対等にやりあえるように、技術の面でも語学力の面でも、力をつけていきたいと思います。

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